近日，专注于高精度光掩膜基版材料研发与生产的领先企业普照材料成功完成B+轮融资，农银投资与湖南高速基金作为本次投资方，共同为这家技术驱动型公司注入发展新动能。作为光掩膜基版领域的核心供应商，普照材料已建立起从75×75mm到700×800mm的全规格溅射匀胶铬版生产能力，其产品凭借卓越性能广泛应用于新型平板显示、集成电路、微纳加工以及激光防伪等高精尖领域，为下游产业提供关键材料支持。
此次融资不仅为企业发展提供了资金保障，更将助力普照材料在高端光掩膜材料市场持续保持领先地位。通过优化产线技术水平和提升生产效率，公司能够更好地满足半导体与光电产业对高精度掩膜基版日益增长的需求。随着全球半导体产业的快速发展，高精度光掩膜基版作为芯片制造的关键材料，其市场需求呈现爆发式增长，普照材料正凭借其技术优势和市场前瞻性，积极把握这一历史性发展机遇。
