微新创想:当地时间2026年3月19日,冷却方案厂商EK宣布推出专为英伟达H200 NVL PCIe GPU设计的EK-Pro GPU WB H200 NVL分体式水冷冷头。这款产品是EK在高性能散热领域的一次重要突破,旨在为AI计算设备提供更高效的冷却解决方案。
该冷头采用双微鳍片模块设计,分别覆盖GPU核心与HBM内存各半,确保全区域高流速散热。这种创新设计有效解决了传统单流道冷头在后段流速衰减的问题,从而提升了整体散热效率。
产品主体为CNC镀镍电解铜,搭配不锈钢顶盖、铝制背板及黄铜接口,使用EPDM密封圈。这些材料的选择不仅保证了冷头的耐用性,还进一步增强了其导热性能和结构稳定性。
此举使原本双槽规格的H200 NVL显卡可压缩至单槽FHFL尺寸,大大提升了AI服务器的空间利用率。对于数据中心和高性能计算环境而言,这一改进将有助于优化硬件布局,降低能耗,提高运行效率。
