ASML交付High NA EUV光刻机EXE:5200助力imec亚2nm研发升级

微新创想：3月18日，ASML向比利时imec交付EXE:5200高数值孔径极紫外光刻系统。该设备将部署于imec总部鲁汶，用于支撑亚2nm中试线NanoIC项目。

微新创想：imec与ASML长期保持紧密合作，此前已在荷兰费尔德霍芬联合开展High NA EUV技术研发。此次交付标志着双方在高端半导体制造技术领域的进一步深化。

微新创想：新设备预计于2026年第四季度完成全面认证。这将为imec在先进制程研发方面提供更强的技术支撑，同时提升其量产级验证能力。

微新创想：EXE:5200高数值孔径极紫外光刻系统是当前最先进的光刻设备之一，其高精度与高效率对于推动芯片制造工艺的突破具有重要意义。

微新创想：随着半导体行业对更小制程节点的需求不断增长，高数值孔径EUV光刻技术成为实现亚2nm芯片制造的关键。imec通过引入这一设备，将加速其在前沿芯片研发领域的探索。