微新创想：2026年2月，深圳普雨科技有限公司完成A+轮融资，由零一创投与普丰资本联合投资。此次融资为公司的发展注入了新的动力，标志着其在纳米压印半导体光刻设备领域迈出了重要的一步。
微新创想：该公司专注于纳米压印半导体光刻设备的研发与产业化，致力于为集成电路、半导体及泛半导体行业提供先进的微纳制造解决方案。通过不断的技术创新，普雨科技正在推动行业向更高效、更低成本的制造方式发展。
微新创想：本轮融资将用于加速核心设备的量产进程，推动技术的持续迭代，并进一步拓展市场。这不仅有助于提升产品的市场竞争力，也为公司未来的规模化发展奠定了坚实的基础。
微新创想：普雨科技成立于2021年，总部位于深圳。公司已组建了一支具备光刻系统、纳米压印工艺和精密机械背景的跨学科团队，为技术研发和产品落地提供了强有力的支持。
微新创想：随着半导体行业的快速发展，纳米压印技术作为一项具有潜力的替代方案，正受到越来越多的关注。普雨科技此次融资，不仅体现了资本市场对其技术实力和市场前景的认可，也为其在行业中的领先地位提供了有力保障。