创世威纳完成A+轮融资 加速半导体镀膜设备国产化升级

微新创想：2026年3月，北京创世威纳科技有限公司完成A+轮融资，由中银国际投资与金浦投资联合出资。此次融资标志着公司在半导体设备研发领域迈出了重要一步。

该公司专注于磁控溅射、离子束溅射、电子束蒸发及多弧离子镀膜等半导体工艺设备的研发设计。这些技术是现代半导体制造中不可或缺的关键环节，广泛应用于芯片、传感器、光电子器件等多个高技术领域。

本轮融资将用于加速核心设备量产、技术研发升级及高端人才引进。通过加大投入，创世威纳将进一步提升其产品的性能与稳定性，满足市场对高性能半导体设备日益增长的需求。

作为国内少数覆盖多种物理气相沉积（PVD）技术路径的设备商，创世威纳在行业内具有较强的竞争力。公司致力于提升国产半导体关键制程装备自主化水平，推动中国半导体制造设备向高端化、智能化发展。

凭借多年的技术积累与市场洞察，创世威纳不断优化产品结构，拓展应用场景，逐步建立起完善的解决方案体系。未来，公司将继续深耕半导体设备领域，助力中国半导体产业实现高质量发展。