微新创想：2026年4月22日，台积电在美国举行北美技术论坛，公布多项先进制程进展。A13为A14光学微缩版，预计于2029年实现量产，其面积较A14缩减6%，并且能够兼容A14的设计规则。A12则采用新一代背面供电工艺，专为AI和高性能计算领域设计，同样计划于2029年量产。
N2U（2nm增强版）预计在2028年投入生产，该工艺在性能方面有望提升3%至4%，或在功耗方面降低8%至10%。车规级GAA工艺N2A也计划在2028年完成AEC-Q100认证，为汽车电子领域提供更可靠、更高效的芯片解决方案。
此外，面向显示驱动芯片的N16HV工艺将在2026年内推出。相较于N28HV工艺，N16HV的栅极密度提升了41%，同时功耗降低了35%。这一进步将有助于提升显示设备的能效表现，满足市场对高性能与低功耗的双重需求。
