SK海力士正加速其先进芯片制造能力，计划在未来两年内大幅扩充EUV光刻系统规模。据韩国媒体etnews独家报道，这家存储芯片巨头将新增约20台ASML的EUV光刻设备，使现有约20台的EUV机台数量实现翻倍增长。这一战略举措旨在巩固其在全球半导体设备领域的领导地位。
在内存技术领域，EUV光刻工艺自2021年成功应用于1a nm DRAM生产后，正持续扩展其应用范围。随着人工智能技术的快速发展，市场对高性能企业级存储的需求急剧增长，特别是高带宽内存（HBM）产品呈现爆发式增长态势。在此背景下，扩大先进DRAM产能已成为行业发展的关键突破口。
为满足这一市场需求，SK海力士近期在韩国利川M16基地完成了业界首台量产型High-NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200B的部署工作。这款尖端设备的应用标志着半导体制造技术迈入新纪元，将显著提升芯片制造精度和生产效率，进一步强化SK海力士在先进存储领域的竞争优势。此次设备部署不仅体现了该公司对技术创新的持续投入，也彰显了其在全球半导体产业链中的战略布局决心