2025年11月，日本产业技术综合研究所（AIST）传来重大突破性消息，宣布成功建成国内首条支持最先进工艺的12英寸晶圆共享中试线。这条先进的中试线落户AIST facility内部，专门用于GAA全环绕栅极晶体管等尖端技术的试制，标志着日本半导体产业在先进工艺研发领域迈出了关键一步。该项目的建设凝聚了AIST与TEL、SCREEN、佳能等顶尖企业的合力，共同打造了一个开放共享的先进工艺测试平台。
日本半导体产业链上下游企业将能够通过这一平台，对自研设备与材料进行实际测试，验证其在尖端工艺中的性能表现与适用性。这种共享模式不仅有效降低了企业和学术界在先进工艺研发中的成本投入，还通过严格的知识产权保护机制，确保了研发成果的安全性。更重要的是，这一举措将极大加速日本半导体技术的研发进程，推动本土供应链向更高水平迈进，显著提升其在全球半导体市场的国际竞争力。